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Kioxia
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- オープンポジション|品質保証・品質管理(SSD/RoHS・REACH・サプライヤ監査)|横浜_K2696 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- オープンポジション|品質マネジメント(SSD/QMS・ISO9001)|横浜_K2697 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- キャリア登録(エンジニア職種希望の方) · ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ◆四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より
- キャリア登録(事務系職種希望の方) · ◆本社(東京都港区) JR田町駅徒歩2分(駅近5分以内) ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ◆四日市工場(三重県四日市市
- 酸化物半導体を用いた次世代メモリの研究開発_■Y2602 · 【Web面接実施中】 ●四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より急行で30分弱 ・東名阪道四日市東ICより車5分 ・
- 次世代DRAM (2D-OCTRAM)回路設計エンジニア_K2644 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋内喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- 酸化物半導体を用いた次世代メモリ及びエンタープライズSSD搭載DRAMの信頼性評価・解析エンジニア_K2645 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- 次世代半導体デバイスの材料開発_K2679 · 【Web面接実施中】 ◆新子安テクノロジーフロント (神奈川県横浜市神奈川区 ) ・JR新子安駅徒歩5分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の
- 次世代ストレージ(光SSD)の先端技術研究開発(異業界歓迎)_K2683 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- 次世代半導体デバイスに向けた計算科学/第一原理解析の研究開発_K2686 · 【Web面接実施中】 ◆新子安テクノロジーフロント (神奈川県横浜市神奈川区 ) ・JR新子安駅徒歩5分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の
- SSD向けLSI(SoC)フロントエンド(UVM・論理検証)エンジニア_K2608 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲]
- SSD製品の電子部品の企画・選定及び戦略策定(異業界歓迎)_K2614 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- NANDコントローラLSI(SoC)の高速デジタル回路設計・検証_K2620 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- SSD向けLSI(SoC)開発におけるアーキテクチャ設計開発_K2621 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- 次世代メモリ高速I/Fアーキテクト(規格策定・SI/PIソリューション)_K2634 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- エンタープライズ/データセンターSSD製品開発のプロジェクトマネジメント※製品・業界不問※_K2650 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- クライアントSSD製品開発のプロジェクトマネジメント※製品不問※_K2657 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- クライアントSSD向けコントローラSoC企画・仕様策定_K2660 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- エンタープライズ/データセンター向け次世代SSD製品の先行開発_K2681 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- NANDコントローラLSI(SoC)のレイアウト設計業務《リーダー候補》_K2684 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- SSD向けSoCフロントエンド(論理設計)エンジニア_K2699 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋内喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- UFSのファームウェア評価・開発業務 _K2616 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- エンタープライズSSDファームウェアテスト※製品・業界不問※_K2626 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- 半導体ドライブ(SSD)検査装置の制御プログラム開発※製品、業界不問※_K2628 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- クライアントSSD製品の組み込みソフトウェアエンジニア_K2659 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- エンタープライズSSDのファームウェア開発(設計/評価)_K2661 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- AIエージェント・LLM活用技術開発エンジニア(メモリ製品評価領域)_K2676 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- 次世代SSDの新機能開発・シミュレーションエンジニア(要求仕様策定/C++・Python)_K2698 · 【Web面接実施中】 ◆横浜テクノロジーキャンパス(神奈川県横浜市栄区) ・JR大船駅徒歩7分 ●敷地内禁煙(但し屋外喫煙可能場所あり) [就業場所の変更の範囲
- 量産前工程のユニットプロセスエンジニア※物理・化学・材料系出身者であれば未経験可※_Y2604 · 【Web面接実施中】 ●四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より急行で30分弱 ・東名阪道四日市東ICより車5分 ・
- フラッシュメモリの前工程製造プロセスの全体最適における統括・改善担当_Y2626 · 【Web面接実施中】 ●四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より急行で30分弱 ・東名阪道四日市東ICより車5分 ・
- 半導体後工程における製造技術エンジニア_Y2607 · 【Web面接実施中】 ●四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より急行で30分弱 ・東名阪道四日市東ICより車5分 ・
- 量産前工程(ドライエッチングおよびCVDプロセス)の製造技術最適化※業界不問※_Y2618 · 【Web面接実施中】 ●四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より急行で30分弱 ・東名阪道四日市東ICより車5分 ・
- 前工程(フラッシュメモリの試作)立ち上げの最適化※業界不問※_Y2619 · 【Web面接実施中】 ●四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より急行で30分弱 ・東名阪道四日市東ICより車5分 ・
- 半導体開発DXエンジニア(IT/AI技術で次世代メモリ開発を加速)_Y2620 · 【Web面接実施中】 ●四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より急行で30分弱 ・東名阪道四日市東ICより車5分 ・
- 次世代フラッシュメモリ開発エンジニア(前工程インテグレーション技術)※業界未経験応募可※_Y2621 · 【Web面接実施中】 ●四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より急行で30分弱 ・東名阪道四日市東ICより車5分 ・
- 新規3Dメモリインテグレーション技術開発_Y2623 · 【Web面接実施中】 ●四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より急行で30分弱 ・東名阪道四日市東ICより車5分 ・
- 新規メモリ向けCMOSデバイス開発業務_Y2624 · 【Web面接実施中】 ●四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より急行で30分弱 ・東名阪道四日市東ICより車5分 ・
- メモリパッケージ開発(プロセス・材料・装置・製品立ち上げ)_Y2630 · 【Web面接実施中】 ●四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より急行で30分弱 ・東名阪道四日市東ICより車5分 ・
- 次世代3Dメモリの研究開発※リーダー候補_Y2631 · 【Web面接実施中】 ●四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より急行で30分弱 ・東名阪道四日市東ICより車5分 ・
- 次世代3Dメモリの研究開発※未経験可_Y2632 · 【Web面接実施中】 ●四日市工場(三重県四日市市) ・近鉄富田駅より車10分、バス20分 ※ 名古屋駅より急行で30分弱 ・東名阪道四日市東ICより車5分 ・
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- Answer the questionnaire. With your résumé, the AI drafts the answers and you check them.
- Choose your companies. The AI proposes employers that hire for your seats; add any of your own.
- See how many open roles pass your screen, free. Choose a plan when you want the AI to read them.
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